加熱・あたため

ある特定の対象物や試料（ターゲット）を、真空中のサンプルステージの上で目的とする温度で安定させたり、高温に加熱したり。
ガス雰囲気と真空排気を繰り返し、チャンバー内の酸素、水分などを極力除いた環境から、高温のガス雰囲気で過熱処理（脱ガス処理・還元雰囲気処理）したり、そのまま真空高温熱処理（最高２３００℃）をしたり。
実験や生産、分析まで用途により真空中での加熱する方法はさまざま洗濯できます。
目的とする温度域で、プログラムコントロールをして（PID制御など）安定した温度コントロールすることも可能です。
チャンバーの高真空化をなしえるための外部ベーキングも大切な加熱処理です。装置のみならず配管加熱のご相談も承ります。

実験用の熱処理装置（アニール炉）から蒸着気、スパッタリング装置、エッチング装置、ＣＶＤ装置、小型一般産業用生産機まで、設計、製作、改造、修理、メンテナンスなどご相談ください。

真空・ガス雰囲気抵抗加熱ヒーターMax1700℃

中央が試料ステージになります。対象物により任意の保持・設置位置・温度分布位置に加工できます。真空度は、オイル利用のRP+DP排気系、もしくは ドライ仕様のRP+TMP（RP+CRYO）をご用意いたします。

ガス雰囲気での熱処理も可能です。N2,Ar,,Heなど不活性ガスを基本に対応しております。
１台　￥5,000,000- 炉内試料有効寸法　φ50xH70

「最高到達温度2300℃ タングステンメッシュヒーター」

「測温用熱伝対」
到達高温処理をしている最中は、大気中側に退き放射温度計に切り替えます。

温度勾配コントロール　記録計データー

プログラムコントローラー

PID制御により目的とするレシピを入力すれば、プロコンマ任せで立ち上げからTOP温度到達、立ち下げまで自動運転が可能です。記録計やＰＣへの落とし込みなども可能です。

※ ＰＩＤ制御
PID(P:比例、I:積分、Ｄ：徴分)制御は多くある制御の中で、最も多く使用されています。とりわけ、プロセス制御分野では、ディジタル制御時代の現在でも、このPID制御が制御全体の90数％以上の圧倒的シェアを誇っており、今後もこれを超える汎用制御技術はそう 簡単には出現しないと予測されます。

「記録計」
温度データーの記録計です。多点式で多くのセンシングデーターを記録できます。

PID制御の主な特徴としては
１、P(比例)、Ｉ(積分)、Ｄ(微分)というわずか３種の動作でできているシンプルな構成であるが、プロセスエ業などに現れる大部分の対象に対して、十分な調整能力を持っている。
２、その物理的意味が明確で、調整が容易である。
３、シンプルな構成で長い歴史を持っているが、すべて解明されておらず、未解明な部分や高度化の余地が残っている。
４、最近、解明が進んで、PID制御で理論付けられる範囲が広がっている。
５、プラント運転制御システムなどの性能を向上させるには、基盤となっているPID制御の本質を理解し、正しく適用することがスタート点である。
などか挙げられております。

蒸着機　回転＋Ｚ軸ステージ

ターゲットへ蒸着源を的確に飛ばすためには、XYZトランスファー機構が必要となります。移動機構を有しながら過熱機構を持たせるためには十分な検討が必要です。

蒸着ステージ　加熱状態

EB加熱機構を搭載したステージの様子です。蒸着源が飛散し目的とする部位以外に付着すること考慮する必要があります。

細径部分のベーキング

ガス分子は、道路の自動車に例えられます。3車線の高速道路であれば早く多くの車が（ガス分子が）通過できます（排気できます）。しかし、一本道の細い道路はどんなに急いでも、一台の車がゆっくり通過するしかないのです。高速で目的地に短時間で到着するのと、一般道で遠路はるばる時間をかけて到着することと同じです。細い配管部などは到達真空度を達成するには、おのずと時間がかかることとなります。

ベーキング温度

シースヒーターやリボンヒーター、マウント型ヒーターなど、各種ヒーターによよる加熱方法はありますが、管理温度によってガスが溜まってしまったり、焼き過ぎることによりパイプの硫黄分などが析出したりして逆にデメリットとなることも可能性あります。焼けばよいのでなく、均一に適度な温度で加熱処理することがベーキングの妙でしょうか。

真空バルブなどの加熱

ベーキングの際、各パーツの耐熱温度、バルブシートが全閉、全開いずれの場合に焼き出しするか、ベーキング中はバルブを動作させられるのか不可なのか確認しながら進める必要があります。

TMPトップフランジのベーキング

チャンバーや脱ガスの大きな部位のベーキングも必要ですが、脱ガスされた分子の集まる排気系のTOPまで同等の温度でベーキングすることで確実に排気できるのです。