ガスの知恵袋 2011年11月21日
可燃性ガス、毒性ガスなどの漏洩は、人身事故、災害に直結します。
24時間連続して漏れを検知し安全を守ってくれるのがガス漏洩検知器
です。
センサー交換が可能な毒性ガス検知器
ガス種によりさまざまな検出原理がありますが、ガス漏れセンサーは
６ヶ月間または１年間で交換が必要な場合が多く、少なくとも１年に
１回以上のセンサーの感度を校正するメンテアンスが必要です。
ガス漏れを数値化し表示する検知警報指示部
ガス漏れの信号を取り込んで、ボンベの元バルブを緊急遮断したり
装置を立ち下げしたり、自動でパージを行ったり緊急除害装置を起動
したりして自動的に安全方向に連動させることが可能です。
ガス検知警報制御盤（シーケンサー制御式）
各種ガスの漏洩検知器や除害装置、電気計装工事（シーケンス制御）など
川口液化ケミカル株式会社までご相談下さい。
TEL 048-282-3665
FAX 048-281-3987
※ｱﾄﾞﾚｽ前のCutHereはｽﾊﾟﾑ対策ですので削除願います。
ありがとうございます
今日の埼玉県川口市のお天気は？
2011年11月21日 月曜日
※プロ野球日本シリーズ2011は昨日、福岡市中央区のヤフードームで第７戦を行い
福岡ソフトバンクが中日ドラゴンズを３－０で破り、４勝３敗で８年ぶりの日本一
に輝きました。ホークスが日本一に輝くのは南海時代を含めて通算５度目になり
秋山幸二監督は就任３年目にして初の栄冠です。秋山監督の男泣きも見られ祈願の
優勝であったことがうかがえますね。
天気 はれ
ボンベ庫の温度 朝10℃、昼12℃、夜12℃
です。
「腐る」のと「発酵する」のは違う
人の害になるのが腐敗
人の為になるのが発酵
誰でも、生きていれば
辛いことも
苦しいことも
失敗することもある
そんなときに
何（誰）を思うか？
それが人生を２つに分ける
手を抜いた失敗は
周りに迷惑をかけ
自らの人生を腐敗させていく
誰かのために挑戦した失敗は
次への糧になり
人生を豊かにしていく
何があっても腐らず
目の前のことに最善を尽くす者は
光を発して、周りを照らす
（小田真嘉氏成長のﾋﾝﾄﾌﾞﾛｸﾞより）
by との
ガスの知恵袋 2011年11月20日
半導体に代表される特殊材料ガスは極めて強い毒性、腐食性を有する物が多くあります。
これらのガスは薄膜成長反応炉の中などで100％処理され無害なガスに変化することは無
く、原料ガスの多くは毒性、腐食性を持ったまま排出ガスとして捨てられます。
排ガス処理剤 「シリカエース」
このとき無害化するための除害設備が除害装置であり、対象ガスと吸着剤が反応して有害な
ガスを許容濃度TLV値以下にする肝が処理薬剤です。対称ガスに対しさまざまな吸着剤を選
択し、配合して吸着塔に充填されます。
吸着剤で無害化できる主な対象ガスは？
水素化合物
SiH4,B2H6,AsH3,PH3,H2Se,GeH4,SnH4,PbH4,NH3,H2S,HI,H2Te,SbH3
塩化物
Cl2,HCl,AsCl3,AsCl5,BCl3,PCl3,PCl5,POCl3,SiH2Cl2,SiHCl3,SiCl4,SnCl4
WCl6,C2ClF6,GeCl4,MOCl5
フッ化物
BF3,AsF3,AsF5,CF4,CHF3,F2,HF,MOF6,SF4,SF6,WF6,C2F6,C3F8,PF3
PF5,SiH3F,SiHF3,,SiH2F2,SiF4,Si2F6
有機化合物
TEOS,TMB,TMP,TEOA,N(CH3)3 トリメチルアミン,Al(CH3)3 トリメチルアルミニウム
Ga(CH3)3 トリメチルガリウム,Ga(C2H6)3 トリエチルガリウム
In(CH3)3 トリメチルインジウム,In(C2H5)4 トリエチルインジウム
Sn(CH3)4 テトラメチルスズ,Sn(C2H5)4 テトラエチルスズ
Zn(CH3)2 ジメチル亜鉛,Zn(C2H5)2 ジエチル亜鉛
主な反応式は？
SiH4
2SiH4 + 6KMnO4 + 10KOH → 6K2MnO4 + 2K2SiO3 + 4H2O + 5H2
SiH2Cl2
2SiH2Cl2 + 6KMnO4 + 10KOH → 4K2MnO6 + 2K2SiO3 + 4KCl + 5H2O + 2H2
AsH3
2AsH3 + 6KMnO4 + 12KOH → 6K2MnO4 + 2k3AsO4 + 4H2O + 5H2
PH3
2PH3 + 6KMnO4 + 12KOH → 6K2MnO4 + 2K3PO4 + 4H2O + 5H2
B2H6
B2H6 + 6KMnO4 + 12KOH → 6K2MnO4 + 2K3BO3 + 6H2O + 3H2
NH3
2NH3 + 6KMnO4 + 8KOH → 6k2MnO4 + 2KNO3 + 2H2O + 5H2
BCl3
2BCl3 + 2KMnO4 + 6KOH → 2KCl + 2MnCl2 + 2K3BO3 + 3H2O + 2・1/2O2
Cl2
4Cl2 + 2KMnO4 + 2KOH → 2MnCl2 + 4KCl + H2O + 4・1/2O2
HF
8HF + 6kMnO4 + 2KOH → 8KF + 2MnO2 + 2Mn2O3 + 5H2O + 5・1/2O2
WF6
2WF6 + 2KMnO4 + 10KOH → 12KF + WO3 + WO2 + Mn2o3 + 5H2O + 2・1/2O2
O3
2O3 → 3O2 （Mn触媒）
14KOH + 2KMnO4 + 5SoF2 → 6KF + 2MnF2 + 7H2O + 5・1/2O2 + 5K2SO3
14KOH + 2KMnO4 + 5COF2 → 6KF + 2MnF2 + 7H2O + 5・1/2O2 + 5K2CO3
14KOH + 2KMnO4 + 5COCl2 → 6KCl + 2MnCl3 + 7H2O + 5・1/2O2 + 5K2CO3
TEOS
Si(OC2H5)4 + KOH + KMnO4 → K2MnO4 + K2si(OC2H5)3 + KOC2H5 + H2O + H2
以上対象ガスと反応式により、吸着剤の色の変化を確認しガスセンサーの警報システム
との併用に更なる安全性が確保されます。乾式吸着剤は湿式のようなメンテナンスやユ
ーティリティはほとんど不要で、処理剤の性能によりコンパクト化および低コスト化が
実現可能です。また、吸着剤のみのセットによっても排ガス処理が可能で、お客さまの
ご要望により特注での装置組み込み対応も可能です。
特殊材料ガスの除害装置。除害塔などのご相談ご用命は
川口液化ケミカル株式会社までご連絡下さい。
TEL 048-282-3665
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今日の埼玉県さいたま市のお天気は？
2011年11月20日 日曜日
※「仕分け」第4弾がスタートし初日は原子力分野などが議論され、高速増殖炉「もんじゅに」
ついて、抜本的に見直すべきとの提言が出されました。
天気 晴れ後雨
気温 16℃（PM5:30）
です。
そのむかし、インドに周利槃特（シュリハンドク）という僧がいた。
シャカの十大弟子の一人だった。
十大弟子というからには、数あるシャカの弟子の中でもさぞかし優秀な人物
なのだったのだろうと思いきや、実際は、全くそうではなかった。
優秀というよりも、むしろ愚鈍で、彼がどれほど愚鈍だったかというと、
自分の名前すら覚えることができなかったというのだから、本当に苦労したのだと思う。
あるとき、あまりの自分のふがいなさに、絶望し、慟哭（どうこく）した。
話をききつけた、お釈迦様は、彼のもとにかけより、こう言ったのだ。
“道を歩む上では、賢きも、愚かも、関係ない。
いや…むしろ、おまえのように、自分の愚かさを知っていることは、もっとも悟り
に近いのだ。
世の中には自分は賢いと思っている愚か者が、本当に多いのだから。”
そして、彼は一本のホウキとともに、こんな言葉を授かった。
“塵（ちり）を払わん。
垢（あか）を除かん。”
と。
それから彼は雨の日も風の日もホウキを握りしめ、
“塵（ちり）を払わん。
垢（あか）を除かん。”
と掃除し続けた。
「掃除なんかしてて、悟れるかよ。」
と、他の門弟からバカにされることは、しょっちゅうだった。
結果の伴わない道だから、ときにはその言葉が深く心に突き刺さるときもあった。
しかし、彼は賭けたのだ。
最も敬愛する、その師の言葉に、全人生を賭けたのだ。
気がつけば、二十年もの月日が流れていた。
精舎は美しく磨かれ、余計なものはなくなった。
すべてのものはきらめくように輝き、まるで彼に愛をささやきかけてくるかの
ようであった。
彼は思った。
“あの頃は、何かを得たい、得たいと思って必死になっていたけれど、
結局、二十年経った今も、何も得ることはできなかったな。
でも、もはやそんなことはどうでもよかったのだと、今では思う。
なぜなら、私は、今…
全てのものの中に光を見出し、仏を見出すことができるのだから。
この他に一体、何が必要なのだと言うのだろうか。
…ああ、そうか。
お釈迦様はあのとき、”塵（ちり）を払わん。垢（あか）を除かん。”
とおっしゃったけれど、垢と塵とは、そんな私の心の汚れのことを言っていたのか。
…ありがとうございます。”
澄み切った瞳から、ひとしずくの涙がこぼれ落ちた、そのとき…
彼はついに、阿羅漢の境地に達した。
（大学受験塾ﾐｽﾀーｽﾃｯﾌﾟｱｯﾌﾟ川崎雅史氏ﾌﾞﾛｸﾞより）
by との
ガスの知恵袋 2011年11月19日
もはや、半導体が産業の米と言われたのは過去のこと。
薄膜を積層させる技術は、太陽高発電、LED、有機ELなどに取って代わりましたが
半導体の技術が進化発展してきたことから引き継がれ新たな産業を生み出されていると思います。
半導体前工程と呼ばれるプロセスは、シリコン薄膜の表面を酸化・CVDなどの方法でシリコン酸化
物、シリコン窒化物などの薄膜をつけ。マスクを用いて写真製版、エッチングにより部分的に除去
し、ここに拡散、イオン注入などにより必要な不純物を入れます。これらの工程を複数回繰り返し
シリコン薄板に多くのICチップを製作します。
それぞれの工程で使用される高圧ガスには、多くの種類、混合割合、流量を微妙に制御されています。
エピタキシャル成長
Si [SiH4,SiHCl3,SiH2Cl2,SiCl4] + H2
Ge GeH4,GeCl4
ﾄﾞｰﾊﾟﾝﾄ AsH3,PH3,B2H6
Ⅲ-Ⅴ族 AsH3 + (CH3)Al + (CH3)Ga + H2
ﾄﾞｰﾊﾟﾝﾄ H2Se,H2S,H2Te,(Ch3)2Te,(CH5)2Te,(C2H5)2Te,(C2H5)2Zn
酸化
O2,O2 + H2,O2 + H2O,O2 + HCl,O2 + Cl2,O2 + N2
エッチング
SiO2 CHF3,CF4,CF4 + H2,C2H6,C3H8,CCl2F2
Si3N4 CF4,CF4 + H2,CF4 + O2
Poly Si CCl4,CF4,CF4 + O2,CCl3F,CClF3,CBrF3,Cl2,SF6,NF3,C2H6
Si CCl2F2,CF4,CF4 + O2,CCl4
Al BCl3,CCl4,CCl4 + Ar,CCl4 + He,Cl2
Al2O3 BCl3,CCl4,CCl4 + He
Cr Cl2,CCl4,CCl4 + Air,CCl4 + O2
Mo CCl2F2 + O2,CCl4 + O2,CF4 + O2,CF4
Ti CCl4,CF4
Ta CF4
GaAs CCl2F2,CCl4
レジスト除去
O2,CF4 + O2
不純物拡散
B BCl3,BBr3,B2H6
P PH3,PCl3,POCl3
As AsH3
イオン注入
B BF3,BCl3
P PH3 + H2,PF3,PF5
As AsH3 + H2,AsF3,AsF5,AsCl3
Si AiF4
Sb SbH3
CVD
SiO2 SiH4 + O2,Si(OC2H5)4,SiH2Cl2 + N2O,SiH4 + N2O
Si3N4 SiH4 + NH3,SiH4 + N2,SiH2Cl2 + NH3
PolySi SiH4 + NH3,SiH4 + H2,SiH4
PSG PH3 + SiH4 + O2,SiH2Cl2 + PH3 + N2O
BSG B2H6 + SiH4 + O2
a-Si SiH4 + Ar,SiH4 + H2
Al2O3 AlCl3 + CO2 + H2,Al(CH3)3 + O2,Al(OC3H7)3
スパッタリング
Ar,Ar + O2
イオンプレーティング
O2,N2,NH3,C2h2,CH4,H2S
各種高圧ガスのボンベでのご用意、ガス機器（圧力調整器、バルブ、流量制御機器など）
特殊ガス配管工事まで川口液化ケミカル株式会社へご連絡ください。
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今日の埼玉県さいたま市の天気は？
2011年11月19日 土曜日
※CS放送のアニメ「銀魂（ぎんたま）」の1話分が突然放送休止になり、蓮舫行政刷新相
のネタが影響したのかと取り沙汰されております。
天気 雨
気温 13℃(PM7:30)
です。
耳に聞こえてくる音は、
あなたの心をあらわしている。
心の中が、騒（さわ）がしいと、
まるで、それをごまかすかのように、
人は、物音をたてたり、刺激的な音楽を聴いたりして、
騒音（ノイズ）の中に隠れようとする。
心が静かな人は、
所作（しょさ）も静かで、
無音の中で、真の幸福感に満たされる。
耳を澄まして、
心の音を、聞いてみよう。
（北極流今日の開運ﾒｯｾｰｼﾞﾌﾞﾛｸﾞより）
by との
ガスの知恵袋 2011年11月18日
気相エピタキシー（Vapor Phase Epitaxy）には、AsやPの原料としてAsCl3やPCl3を使用する
塩化物VPEと、AsH3やPH3を使用する水素化物VPEがあります。
マイクロ波デバイス用のVPE法はAsCl3を原料とするVPEでGaAsのVPEウエハ製造工程で単結晶
基板の前処理（エッチング、洗浄、乾燥）はLPEと同じで、エピタキシャル成長時にはH2S
SiH4などのドーピングガスを使用します。キャリアーガスにはH2が使用され、パージにN2が使用
されます。FTE用VPE法では原料のAsCl3とGaを約800℃の水素雰囲気中で反応させ、反応管内に
GaCl蒸気とAs蒸気を作ってガスの下流に置かれたGaAs単結晶基板上に単結晶GaAsの薄膜を積層
させます。一般的にn型不純物用ドーピングガスはH2Sが使用され、SiH4の場合も稀にあります。
FTE用VPEは 4GaCl + AS4 +2H2 → 4GaAs + 4HCl となり排ガス中にはHClが存在します。
FET用VPE-GaASの量産システムでは石英製基板ホルダーにセットされた複数のGaAS単結晶板
をモーターで回転させながら成長させます。キャリヤーガスのH2ガスの流量制御や成長温度など
も自動制御されます。AsCl3の配管系やHCl・As4のある反応管、ドーピングガスのボンベなどは
排ガス処理装置＋スクラバーに接続して処理をされます。
MO-CVDなどのガス供給系、ガス流量制御系、排ガス処理装置など
川口液化ケミカル株式会社までご相談下さい。
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今日の埼玉県川口市のお天気は？
2011年11月18日 金曜日
※素粒子ニュートリノが光速より速く飛行するという実験結果を９月に発表していた名古屋大など
国際共同研究グループは今月初めまでの再実験でほぼ同様の結果が得られたと発表しました。
天気 はれ
ボンベ庫の温度 朝13℃、昼14℃、夜12℃
です。
受験生が使ってはいけない言葉5
（大学受験塾ﾐｽﾀーｽﾃｯﾌﾟｱｯﾌﾟ専任講師村田明彦氏ﾌﾞﾛｸﾞより）
「できたと思っていたんですけど」
ミスしていた。
できていなかった。
得点できていなかった。
受験では、そのセリフは通用しません。
できたと思っていたけど、できていなかった。
わかったと思っていたけど、わかっていなかった。
そこから抜け出すためには？
簡単にできた！
簡単にわかった！
と思わないことです。
本当にできているのかな？
本当にわかっているのかな？
とたえず、疑い、確認する。
見る角度をかえてみる。
勉強の感覚を伸ばしていくためには、
「自分はできている」と満足しないことです。
現状を壊していくことで、進歩し、向上するのです。
by との
ガスの知恵袋 2011年11月17日
化合物半導体の工業的なエピタキシャル成長法は、液相エピタキシーと気相エピタキシー
とがあります。液相エピタキシー（Liquid Phase Epitxy）は光半導体素子用のエピタキシャ
ル・ウエハの製法として、赤外発光用LPE-GaAs（液相エピタキシーにより成長させたGa-As
）、高輝度赤外発光用のLPE-AlGaAs、赤色及び緑色発光用のLPE-GaP 、AlGaAs / GaAs 系
半導体レーザー、GaInAsP / InP 系半導体レーザー及び受光素子用などに用いられております。
化合物半導体の量産はGaP または GaAs を基板とする液相エピタキシーで GaAs を例にとり
ますと Ga （29.8℃で溶融）の溶液に GaAs を溶かし込み、この溶液を GaAs 単結晶板にかぶ
せ除冷すると過飽和になった GaAs が GaAs 単結晶板の上に層状に析出します。このときにド
ーパントそして Si , Te , Zn を用い、GaP の場合には H2S , NH3 のようなドーピング用のガス
を用いる場合があります。Ga の溶液が酸化しないように不活性ガスの N2 ガスや還元性ガスの
H2 ガスの雰囲気中でエピタキシャル成長が行われます。横型液相成長炉のスライド式カーボン
ボートを使用する場合、ボート内に設けられた溶液溜からボートの下の基板ホルダー上の単結晶
基板の上に溶液をかぶる仕組みになっており、LPE成長システム内に酸素が混入しないよういろ
いろと工夫されています。
緑発光用のLPE-GaP は回転スライド法で大きなカーボン円板内に収納された GaP 基板上に
溶液をかぶせることで同時に成長させることが出来ます。円板をモーターで回転させることで
均一の厚さの成長層に成長します。また、n型ドータント用H2S 、P型ドーパント用のバブラー
から蒸発させる Znガス、発光中心のドーパント用NH3 など、いずれもキャリアーガスの H2 , N2
により自由に成長室に流すことが出来、一度の成長で n型GaP とP型GaPのLPE成長層を一挙に成
長させます。H2S , NH3 , H2 , N2 ガスのボンベから配管系は排気装置に接続され、万が一漏れが
あったときにに安全性が守られLPE成長室からの排ガスはガス処理装置を経てスクラバーなどガス
洗浄装置に導かれております。
MO-CVD装置の改造、改修、メンテナンス、原料ガスのご相談や
特殊ガスのガスに関するご質問のことなら
TEL 048-282-3665
FAX 048-281-3987
E-mail : CutHere@klchem.co.jp
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ありがとうございます
今日の埼玉県川口市のお天気は＞
2011年11月17日 木曜日
※プロ野球の「コナミ日本シリーズ２０１１」第５戦は１７日、名古屋市のナゴヤドームで行われ
ソフトバンクが５―０で中日を破り敵地で３連勝、対戦成績を３勝２敗としてダイエー時代の
2003年以来8年ぶりの日本一に王手です。
天気 はれ
ボンベ庫の温度 朝12℃、昼14℃、夜13℃
です。
＜失うのは、次を得るためだから＞
いい流れとは、何かしら流れ続けている状態
悪い流れとは、留まって変化していない状態
失う、壊れる、別れ、損する、亡くす…
流れを味方にするには
流れゆくままに自然に生きること
執着、固執、復讐、独占、囲い込み…
流れ出ないようにするのは
不自然な生き方
出るのを止めたら
新たなる流れも入ってこなくなる
たとえ多くを失ったとしても
必要なものは必ず残るようになっている
いや！正確には
失ったのではなく
天地自然にお返しただけ
次へ進むべきときは
必要な分だけちゃんと授かる
（小田真嘉氏成長のﾋﾝﾄﾌﾞﾛｸﾞより）
by との
MFC/MFM (マスフローコントローラ) 2011年11月16日
これは・・・
分析装置などへ搭載するための世界最小の
デジタルマスフローコントローラです。
ケーブルもRJ45ケーブルになりますので
配管配線も含めても非常にコンパクトに収まる仕様になっています。
高圧ガスのご用命、高圧ガス配管工事のご相談のことなら
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2011年11月16日 水曜日
※しし座流星群が今週ピークを迎えます。18日の夜明け前も東の空で観測できそうです。
ピーク時には1時間に約20個飛ぶそうです。
天気 はれ
ﾎﾞﾝﾍﾞ庫の温度 朝11℃、昼18℃、夜12℃
です。
吉田松陰名言集より
「栄辱窮達、毀誉特喪に至りては 命のみ天のみ。
吾が顧みる所に非ざるなり。」
訳）
自分にかかる名誉と恥辱、悪口と褒め言葉 成功と不成功など
に至っては すべて天命である。
私が問題とするものではない。
by との
ガスの知恵袋 2011年11月15日
化合物半導体のボート成長法とは？
単結晶をボート形状をした容器の中ですくることからその名前がつきました。
ボート材料には熱の歪みの少ない高純度の石英が使用されています。成長法の概要
としては、二部屋に分かれた石英室の一方に As を置き、もう片方の石英室に Ga と
GaAs 単結晶のタネを乗せた石英ボートを入れた後にそれぞれの反応炉を真空密閉し
てセットします。炉を昇温することで一方の As を昇華させ、もう片方の石英室に導
くことで Ga と反応させて GaAs メルトを生成させます。あとに生成した GaAs メル
トをタネ結晶に接触させてタネ結晶側から徐々に固化させて結晶を作ります。
As は、600〜610℃で昇華が始まり高い蒸気圧を持ち、GaAs の反応が石英室で行
われるので耐圧と急激な昇温を避けなければ問題があります。ボート成長炉をフード
内に設置することが大切です。成長した結晶の取り出しには、結晶に衝撃を与えない
よう石英室を破壊して取り出す必要があります。
ボート成長法には、水平ブリッジマン法（ホリゾンタル・ブリッジマン法）と温度
傾斜凝固法（グラジェント・フリーズ法）とがあります。水平ブリッジマン法は反応
炉の温度分布を一定に保つことに石英室を移動して、GaAs メルトをタネ結晶側から
冷却させる方法です。温度傾斜凝固法は反応炉内の温度分布に傾斜を保たせたままに
炉内温度を冷却させる方法です。
化合物半導体用のアンモニア供給設備、アンモニアガス配管工事など
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2011年11月15日 火曜日
※サッカー北朝鮮チームに日本チームは 0-1 で敗退しました。
ザック監督は「（完全アウェーという）厳しい環境の中で、フィジカルを前面に
押し出した北朝鮮に攻め込まれた。」とコメントしました。
天気 はれ
ボンベ庫の温度 朝12℃、昼18℃、夜14℃
です。
北極流今日の開運ﾒｯｾｰｼﾞﾌﾞﾛｸﾞより
誰にでも良い顔をして
誘われたら誰にでもついていく。
そんな八方美人的な生き方は
己のエネルギーを著しく下げる。
そして、人からエネルギーを奪う。
そんな人のことを「さげまん」という。
大切な人・エネルギーを注ぐべきことがわかっていて
“大事なこと”のために
エネルギーをためることができる人。
それが、「あげまん」なんだ。
by との
ガスの知恵袋 2011年11月14日
化合物半導体の引上げ成長法はチョクラルスキー（Czochralski）法ともいい、化合物の種類
と製造方法により、元素から直接単結晶を製造する直接合成法と、元素から多結晶の製造を経由
してその多結晶を溶解させてから単結晶を製造する間接合成法とがあります。
GaPの単結晶製造は、間接合成法が一般的です。Ga と P を石英アンプル内に真空封入して高
圧炉内で加熱すると、P は蒸気となり Ga に吸収されて GaP となります。アンプル内は P 蒸気
で高圧となるため、高圧炉には炉内圧力をアンプルの内圧にバランスさせるための圧力調整機構
が必要なのです。GaAs 、InP の多結晶も同様の方法で合成されています。化合物半導体の単結晶
引上げ成長法はV族元素の解離蒸発を抑止し化学量論的な組成偏差を極力小さくするためにLEC
(Liquid Encapsulated Czochralski）法と呼ばれる液体封止による引上げ成長法がその主流となっ
ています。GaP のLEC法は、あらかじめ合成した多結晶と液体カプセル剤としてのB2O3 を坩堝
に入れて熱溶解すると B2o3 メルトはGaP メルトを封入する形態をとります。単結晶の引上げは
GaP 種結晶をB2O3 メルトを通してGaP メルトに接触させ、種結晶下にGaP を再結晶させて結晶
成長を行います。主結晶を徐々に引上げながら結晶を成長させますので引上げ成長法と言われてお
ります。
GaP メルトや引上げ途中にある単結晶中に P の解離蒸発を防止するため P の解離圧力以上の高
圧が B2O3 を介して加えられます。この加圧には Ar や N2 の不活性がガスを使用します。GaAs
InP の単結晶も同様の方法で引上げますが、GaAs の引上げ法には直接合成法と間接合成法が採用
されています。
MO-CVD用MFC,MFM,APCなどガス流量制御機器のことなら
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ありおがとうございます
今日の埼玉県川口市のお天気は？
2011年11月14日 月曜日
※兵庫県姫路市の姫路城周辺で開かれたＢ級ご当地グルメの祭典「Ｂ―１グランプリ」は
１位のゴールドグランプリに岡山県真庭市の「ひるぜん焼そば好いとん会」（ひるぜん焼そば）
が選ばれました。
天気 はれ
ボンベ庫の温度 朝15℃、昼18℃、夜16℃
です。
（北極流今日の開運ﾒｯｾｰｼﾞﾌﾞﾛｸﾞより）
恩を受けたら、
「言葉」だけでなく、
「行動」でお返ししよう。
１００の言葉で礼を言うより、
１日でも早く、行動で示そう。
by との
ガスの知恵袋 2011年11月13日
GaAs（ガリウムヒ素)、GaP（ガリウムリン）などに代表される化合物半導体は
Si（シリコン）では難しい光半導体素子やオプトエレクトロニクス素子、超高周波
超高速デバイス用半導体にかかせないものとして発展進歩してきました。
それではSiやGeなどの元素半導体と比べ化合物半導体とはどのような特長があるので
しょうか？
化合物半導体は、二成分以上の元素からなります。融点における成分の蒸気圧がシリ
コンに比べ高いため多結晶合成や単結晶成長で蒸気圧の高い成分元素が高温で蒸発した
り漏れたいしないよう、化合物半導体特有の引上法やボート法などを採用しています。
シリコン同様に高純度化が必要で成分元素の化学当量比（ストイキオメトリ）を精密に
制御する必要があります。また、シリコン同様単結晶ウエハに不純物イオンを注入して
デバイスの動作層とする場合もありますが単結晶ウエハに成長させたエピタキシャル成
長層を用いて製造され、化合物半導体の種類や応用デバイスの種類によりそれぞれ適し
たエピタキシーが採用されております。エピタキシャル製造設備も化合物半導体特有の
ものであり、単結晶製造工程とエピタキシー（エピタキシャルウエハの製造工程）があ
ります。
単化粧製造工程
引上法（GaAs,GaPなど）
ボート法（GaAs）
※多結晶合成、前処理、単結晶成長、スライシング、ラッピング、ポリッシング
エピタキシー工程
液相エピタキシー（GaAs,GaPなど）
FTE用気相エピタキシー（GaAs）
LED用競うエピタキシー（GaAS,GaP,GaAsP）
※エッチング、洗浄、乾燥、エピタキシャル成長、検査
単結晶製造工程の引上法はLEC法（液体カプセル引上法）が一般的で、ボート法はHB法
（水平式ブリッジマン法）とGF法（温度傾斜凝固法、グラジェント・フリーズ法）など
があります。エピタキシー工程には目的により、液相エピタキシー、FET用気相エピタキ
シー、LED用気相エピタキシーがあります。
この他にMO-CVD（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）やMBE（Molecular
Beam Epitaxy）などがありMO-CVDはLED製造には欠かせない装置にまで進化・発展を
遂げています。
MO-CVD 用ガス供給設備、流量制御設備、除害設備、MO-CVD用ガス配管工事まで
川口液化ケミカル株式会社へご相談ください。
TEL 048-282-3665
FAX 048-281-3987
E-mail : CutHere_info@klchem.cpo.jp
※ｱﾄﾞﾚｽ前のCutHereはｽﾊﾟﾑ対策ですので削除願います。
ありがとうございます
今日の埼玉県さいたま市のお天気は？
2011年11月13日 日曜日
※全国のＢ級ご当地グルメの祭典「Ｂ―１グランプリｉｎ姫路」兵庫県姫路市の姫路城
周辺で開幕しおよそ２０万人の来場者が見込まれております。
天気 はれ
気温 15℃（PM6:30）
です。
「自分事ばかりだと、不利になるばかり」
失敗したくない
失いたくない
面倒なことやりたくない
そうやって自分を守るほど
人のエネルギー（やる気、元気、勇気、運気、幸せ…）を奪うようになり
そうやって奪ったモノは
すぐに、どこかに消えていく
大切な人のために
多少は損しても
ちょっと大変でも
自分ができることをしようとするから
人にエネルギーを与えることができる
そうやって与えたモノは
めぐりにめぐって
忘れた頃に
意外な所から返ってくる
（小田真嘉氏成長のﾋﾝﾄﾌﾞﾛｸﾞより）
by との
真空の知恵 真空機器 2011年11月12日
主な真空機器やガス設備でも毒性ガス、可燃性ガス、半導体や液晶、LED、有機ELなどの
漏れてしまうと支障のあるガス機器本体やVCR溶接継手部、突き合わせ溶接部などの漏れ検
査 はHeリークディテクターにより行うのが一般的です。
ライボルト製Heリークディテクター UL200
対象物の内部を真空排気して、対象物に対し外部からHeガスを吹きかけて漏れがある箇所か
らはHeが通過しますので、内部の真空側にわずかに流れてきたHeガスをHeリークディテク
ターにより検知することで漏れ箇所を特定できます。
Heリークディテクター搭載機器 RP＋TMP＋Qマス
対象物が大きい場合には、Heリークディテクターに搭載した真空ポンプで真空排気するには
負荷が大き過ぎますので、別の排気セットなどが必要です。
小さな溶接加工品やVCR継手の付いた1/4″配管（長さが短いもの）であれば装置本体ので排気
も可能です。
また、当然ですがリーク検知にはHeガスが必要です。
Heリークによる漏れ検査をご要望ございましたら承ります。
※ワークの大きさや漏れの許容値により全ての対象物が検知できるわけではありません。
Heﾘｰｸﾃﾞｨﾃｸﾀｰによる漏れ検査のほか、加圧での気密検査、耐圧検査など
川口液化ケミカル株式会社までご相談下さい。
TEL 048-282-3665
FAX 048-281-3987
E-mail :CutHere_info@klchem.co.jp
※ｱﾄﾞﾚｽ前のCutHereはｽﾊﾟﾑ対策ですので削除願います。
ありがとうございます
今日の埼玉県さいたま市のお天気は？
2011年11月12日 土曜日
※松任谷由実さんがが大晦日のＮＨＫ紅白に出場するそうです。
今年は東日本大震災の被災地支援と復興など、新しい一歩を踏み出すために「あしたを歌おう。」
という趣旨に賛同し、震災後にクローズアップされた自身のヒット曲「春よ、来い」を歌うそうです。
天気 くもり
気温 16℃(PM5:30)
です。
受験生が使ってはいけない言葉４
（大学受験塾ﾐｽﾀーｽﾃｯﾌﾟｱｯﾌﾟ専任講師村田明彦氏ﾌﾞﾛｸﾞより）
「集中できません。」
集中できない。
勉強の取り組み始めは、
なかなか集中できないこともあります。
それを自分で認めて、
口にすることで余計に集中できなくなります。
でもしばらく勉強しているうちに、
雑念が消え勉強に没入没頭している瞬間が訪れます。
そのときが来るまで淡々と勉強しましょう。
そして、できる限り集中できる環境を作る工夫をしましょう。
携帯電話、テレビ、漫画、布団etc…
勉強中は、百害あって一利なしです。
誘惑が多いと集中できなくなってしまうので、
できるだけ遠ざけて勉強するようにしましょう。
by との
