第4907号 原子層堆積装置（ALD：Atomic layer deposition)
原子層堆積の連続的な化学反応を利用した薄膜形成装置のご紹介です！
ALDは半導体デバイス製造のナノマテリアル合成にも利用可能な先進技術
で、化学気相成長（CVD: chemical vapor deposition）のひとつです。
２種類のプリカーサ（前駆体）と呼ばれる化学物質を用います。
プリカーサは１種ずつ対象物表面に反応し、それぞれのプリカーサへの
繰り返し行うことで、薄膜が形成されます。
高圧ガス、低温機器、真空機器
川口液化ケミカル株式会社
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今日の埼玉県川口市のお天気は？
皇紀２６７９年（西暦２０１９年）
5月24日 金曜日 更待月
二十四節季 八節気 小満(しょうまん) 七十二候 二十二候 蚕起食桑(かいこおきてくわをはむ)
※英国のメイ首相は与党保守党の党首を辞任し、その後に首相を退く意向を発表しました。
天気 晴れ
ボンベ庫の温度 朝22℃ 昼28℃ 夜30℃
弊社 太陽光発電総発電量 62.0kW
本日のPM2.5 14.72μg/m 環境省そらまめ君より（さいたま市城南）
本日の電力最大消費率は？
（エレクトリカル・ジャパンElectrical Japan１（AM11:00)より）
北海道電68%、東北電86%、東電79%、中部電82%、北陸電86%
関西電85%、中国電88%、四国電82%、九州電68%、沖縄電力62%
利根川上流域の関東８ダム貯水率は？
5/24 11:00 113,562千m3 98.3% 41.67m3/sec
（利根川ダム管理管理事務所河川情報より）
（藤原・相俣・薗原・矢木沢・奈良俣・下久保・草木および渡良瀬貯%水池）
＊Twitter世界トレンドより
１位：プロテス 、２位：踊り子、
３位：機工士、４位：ベンチマーク、５位：#ノンストップ
ミゾイキクコ
@kikutomatu
1934年生まれ 84歳。
趣味・茶道、園芸、料理、写真、 お茶大理学部卒業。
ツイッター開始2010年1月28日。
著書:何がいいかなんて終わってみないとわかりません。
キクコさんのつぶやき（83歳の私がツイッターで伝えたいこと）。
月刊「3分クッキング」連載中。
「こんだてをかんがえるのがめんどうだという。
テレビで。
私は食べたいものや、
材料があるものを使うので、
そういうおもいはないのだが。」
西野亮廣氏ブログbyAmeba
「大企業の弱点とオンラインサロンの可能性」
klchem blogs by との