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第4245号 ICP-MS 分析装置用ガスとは?

新型ICP-MS 分析装置へのガス供給系には

どのようなガスが必要なのでしょう?

2017.07.28icp3.JPG
Agilent製分析装置

新型機では・・・

・Ar         99.99%up  0.5~0.7MPa
・Ar(80%)+O2(20%)   99.999%up  0.01~0.1MPa
・He         99.999%up  0.09~0.13MPa
・H2         99.9995%up 0.02~0.06MPa
・Xe         99.999%up  0.02~0.06MPa
・He(90%)+NH3(10%)  99.999%up  0.02~0.06MPa

の条件が必要です。

2017.07.29icp1.JPG 2017.07.29icp2.JPG

分析装置へのガス導入に際し、注すべき点は?

・ガスボンベなど供給元から分析装置まで、ガスの流路をできる限り
 短く、清浄に保つこと
・分析ガス用ボンベで 99.999%up 以上のガスにすること
・工場施設など一般工業用ガスからの供給は不可で、他の機器との
 共有は望ましくない
・ヘリウム、水素の装置への接続は、ステンレスチューブに限り
 3m以内にすること
・セルガス供給用には水素ガス発生装置はお勧めできませんが、それでも
 使用する場合には効果的な水分トラップが必須で、湿気や汚染の無いよう
 クリーンでドライな環境が必要です

2017.07.29icp4.JPG

ICP-MS 分析装置用アルゴンガスは・・・

不純物により機器の汚染やプラズマの点火不良の原因となるため
次の純度が求められます。

アルゴンガスに含まれる、不純物の含有率

・O2     2ppm未満
・N2     10ppm未満
・CO    0.5ppm未満
・CO2    0.5ppm未満
・CH4    0.5ppm未満
・H2O     5ppm未満  

2017.07.29icp5.JPG

分析装置でのガス純度に関する問題とは・・・

待機中の酸素、水分、揮発性有機物は汚染の原因となり、センサーの
感度が変動する深刻な問題を引き起こす可能性があります。

それらの原因とは?

・ICP-MS専用のボンベを使用していない
・装置に接続するボンベからの導管を、汚れがあり、再利用した、金属でない
 銅チューブなど
・プラスチック製ダイヤフラムのついたガスボンベレギュレーター
・含水量の多い水素生成器
・99.999%未満のガスを使用
・他の機器との共有

特に、ガス供給部のチューブは、電解研磨仕様品か、光輝焼鈍仕様にすることが
望まれます。

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 07/29 20:00 294,140m3 85.6% (国土交通省関東地方整備局HPより)
 (藤原・相俣・薗原・矢木沢・奈良俣・下久保・草木および渡良瀬貯水池)
  *Twitter ランキング ついっぷるトレンドより
 1位:隅田川花火大会.、2位:ポドルスキ、3位:浅草駅
 4位:木下百花、5位:マシソン
です。

ミゾイキクコさん Twitterより
@kikutomatu 1934年生まれ 83歳。
趣味・茶道、園芸、料理、写真、 お茶大理学部卒業。
ツイッター開始2010年1月28日。
70年前から見てきた人々の生活、戦争中、敗戦後の生活、高齢者問題について呟きます。
著書:何がいいかなんて終わってみないとわかりません。

「会って楽しい人なら会いたいと思うもの。
 人が会いたくないと思う人はその人が問題なのです。
 限りある時間無駄に使えません。」

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