エッチングガス
「エッチング」は、銅版画とかガラス細工の装飾などで昔から利用されて
着た表面加工技術で、現代では絶縁膜の材料を超微細加工もエッチングにより
行われています。
そこで利用されるのがフッ素系ガスによるドライエッチングガスです。ドライ
と言うのは、薬液などによるウェットに対しガスが乾式にあたるため呼ばれて
おり、プラズマ処理によりエッチング装置と呼ばれる装置で加工されます。
CF4（四フッ化メタン）ガスなどはプラズマ中に含まれるフッ素のラジカルが
化学的に活性が高くシリコン酸化膜 SiO2 などのシリコン系材料と反応し、SiF4
四フッ化硅素など揮発性物質として取り除かれエッチング処理が完了します。
ドライエッチングの例
Si + 4F* → SiF4
SiO2 + 4F* → SiF4 + O2
Si3N4 + 12F* → 3SiF4 + 2N2
エッチング処理では、下地まで深く削りすぎないよう加工部分の形状を制御し
ます。CF3+ のイオンを利用するRIE反応性イオンエッチング手法や、フルオロ
カーボンラジカルによって生成する側壁保護幕の形成技術（形成速度制御など）
はガス種によっても異なり目的に応じて選択されたフッ素系ガスにより使用さ
れております。
主なエッチングガス
・三フッ化メタン CHF3
・四フッ化メタン CF4
・六フッ化ブタジエン C4F6
・八フッ化シクロブタン c-C4F8
・六フッ化硫黄 SF6
フッ素系エッチングガスのご用命やガス供給系機器（調整器、バルブ、流量計）
真空排気系（腐食系ガス対応RP , DP , TMP など）、ガス及び真空配管工事まで
川口液化ケミカル株式会社へご連絡ください。
TEL 048-282-3665
FAX 048-281-3987
※ｱﾄﾞﾚｽ先頭のCutHereはｽﾊﾟﾑ対策です。
ありがとうございます
今日の埼玉県さいたま市のお天気は？
2012年6月2日 土曜日
※シャープは有機ELパネルの実用化技術にめどを付け、液晶パネルの精細度を
高める新しい技術を確立し、有機ＥＬ向けに応用するようです。
液晶の制御に酸化物半導体IGZOを使い精細度を高めながら低コストで安定的
に生産する技術で亀山第２工場の液晶パネルの生産ラインを年度内に改修し
量産出荷を始めたいとしています。
天気 はれ
気温 16℃（PM11:40）
今日の東電最大消費率 83%(PM7:00)
です。
ひとつのことを伝えるのは
本当に大変なこと
莫大なエネルギーを注いで
同じことを何度も伝え
頭をフル回転させながら
例えを変えて繰り返し伝え
時には
見守りながら待ち
時には
情熱を爆発させて伝え
そうして
伝えて、伝えて、伝えて…
やっと
わずか伝わっていく
(小田真嘉氏成長のﾋﾝﾄﾌﾞﾛｸﾞより）
by との