ﾚｰｻﾞｰｱﾆｰﾙ装置
ｼﾘｺﾝｳｴﾊｰを使用せず石英やｶﾞﾗｽ基板などの表面にｼﾘｺﾝの薄膜を形成し
それを結晶化することでｼﾘｺﾝﾃﾞﾊﾞｲｽができないか？
そうした考えから派生したのがﾚｰｻﾞｰｱﾆｰﾙです。紫外線をｼﾘｺﾝｳｴﾊｰに照
射してｼﾘｺﾝ表面を溶融させ熱処理を行うのがﾚｰｻﾞｰｱﾆｰﾙ装置です。
この技術は現在のLCD液晶を駆動するｱﾓﾙﾌｧｽｼﾘｺﾝTFTに生かされていま
すが、結晶化に実用化されたのは1967年のｴｷｼﾏﾚｰｻﾞｰが始まりで、電子
ｱﾆｰﾙなども検討されましたが、ﾚｰｻﾞｰ装置の大型化などにより固体ﾚｰｻﾞｰ
なども実用化が進んでいます。
ﾚｰｻﾞｰｱﾆｰﾙの光源は400nm以下の短波長紫外線を使用し、希ｶﾞｽとﾊﾛｹﾞ
ﾝｶﾞｽのXeCl 308nmｴｷｼﾏﾚｰｻﾞｰなどが使用されております。また、近年ﾌﾞﾙ
ｰﾚｲがｽﾀｰﾄしましたが青色の405nm波長を使用した化合物半導体結晶を用
いた固体ﾚｰｻﾞｰです。ｴｷｼﾏﾚｰｻﾞｰはﾐﾗｰと光学系によりﾋﾞｰﾑを絞り込みｴﾈﾙ
ｷﾞｰが均一になるように整形しｳｴﾊｰに照射します。紫外線ﾚｰｻﾞｰはｼﾘｺﾝの
極々表面にしか吸収されず、表面だけが溶融して再結晶化し微細化に伴
う極々浅い接合に適しているといわれております。
RTA( Rapid Thermal Anneal ) は 800nm の赤外線を使用しますのでｼﾘｺﾝｳ
ｴﾊｰ全体に吸収され昇温が早く光源ﾗﾝﾌﾟを使用しますので複数種のﾗﾝﾌﾟ照
射が可能です。これに対し、ﾚｰｻﾞｰｱﾆｰﾙはﾋﾞｰﾑｻｲｽﾞに限界がありますので
ｽﾙｰﾌﾟｯﾄの面では一括照射のRTAよりもｳｴﾊｰ上をｽｷｬﾆﾝｸﾞするﾚｰｻﾞｰｱﾆｰﾙ装
置が不利になります。
ｴｷｼﾏﾚｰｻﾞｰ用ｶﾞｽ供給設備、F2 , HCl , He , Ne , Kr , Xe など特殊ｶﾞｽ配管工事
まで川口液化ケミカル株式会社へご相談ください。
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ありがとうございます
今日の埼玉県さいたま市のお天気は？
2011年9月18日 日曜日
※ドイツ総合電機大手シーメンスが原発事業から完全に撤退する方針
を決めたそうです。
天気 はれ
気温 26℃(PM11:00)
です。
できること、どうしようもないこと
「もっと分かって」
「少しは手伝って」
「ちょっとぐらい・・・」
と相手に期待するほど
自分の心は乱れていく
そもそも
思い通りに相手を動かすのは不可能
不平や不満、文句を言っても
嘆いても何も変わらない
まず、自分ではどうすることもできないことを知ること
次は、自分ができることや、すべきことを見つけること
最後は、何度も工夫改善をして、人様のお役に立つこと
やがて・・・
周りはあなたを分かってくれ
喜んで手伝ってくれるようになる
（小田真嘉氏成長のﾋﾝﾄﾌﾞﾛｸﾞより）
By との