ｲｵﾝ注入装置用排ｶﾞｽ処理
シリコン結晶中に不純物としてイオン注入装置により、ｱﾙｼﾝ、ﾎｽﾌｨﾝ
三ﾌｯ化ﾎｳ素、三ﾌｯ化ﾘﾝなどが使用されます。使用量自体は薄膜生成に
比べると少ないものの毒性の残ったまま排気されてくるので注意が必要
です。
イオン注入用除害装置は、吸着塔を2塔交互に使用する吸着式が用い
られています。吸着剤にはﾓﾚｷｭﾗｼｰﾌﾞｽや活性ｱﾙﾐﾅ、活性炭 + 金属塩、
酸化剤、触媒などが含侵または添着されたものが多く使用されていま
したが、近年は金属酸化物が用いられています。
ｱﾙｼﾝ、ﾎｽﾌｨﾝの吸着には、金属酸化物 KMnO4 を多孔性物質に含侵
させたものと、FeCl3 など触媒を添着したものがあります。水素化物
のような強い還元物質を吸着処理する場合には、吸着された塔自体に
空気が吸引されたり、吸着剤の交換時に空気と接触して発熱すること
があるので注意が必要です。薬液を含侵させた吸着剤で湿度調節用の
水槽が設置されているものは水中に有毒ガスが溶解しているので排水
を処理するときにはガスの脱気により臭気が発生しますので、排水の
産廃処理が必要です。
塩酸、ﾌｯ酸、ｼﾞｸﾛﾙｼﾗﾝなど酸性のものや、分解して酸を発生させる
排ガスの処理には、吸着剤にアルカリ物質、亜鉛、鉄、銅などの金属
酸化物を添着させたものを使用します。
吸着剤の除害効率は 1 / 10,000 以下の処理により許容濃度以下まで
除害することが重要です。吸着剤には空気を入れないで窒素ｶﾞｽなどで
無酸素状態で処理するものが多いようです。
注意点としては、急激な破過が進む場合が考えられるため、予備等
を設け切替式にすることが望ましく、処理ガスの流れが抵抗の小さい
流路に流れやすいため吸着塔の中に分散するよう板を設けて一定流量
以下にならないよう窒素ｶﾞｽを常時流すこともあります。更には、吸着
塔の入口圧力を監視し内圧が異常に上昇した際には警報を出す機構が
必要です。薬液を含侵させた吸着除害法は 60 ～90% の湿度と 20 ～
50℃程度の温度が望ましく、乾燥ｶﾞｽの処理では吸着剤が乾燥してしま
いその能力を発揮できないこともあったり、0℃以下では反応速度が
遅くなり除害で着ないことも起こり得ます。
大容量の処理ｶﾞｽを除害するためには大風量の接触酸化装置が用いら
れます。その場合には、ﾌﾟﾛｾｽｶﾞｽ同士の二次的に発生するガスや温度
デポ物、材料ｶﾞｽの種類、濃度、流量、設置場所などからさまざまな方
法を検討する必要があります。
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ありがとうございます
今日の埼玉川口市のお天気は？
2011年1月17日 月曜日
天気 はれ
ボンベ庫の温度 朝1℃、昼2℃
です。
寒い、寒い、寒い。
相当寒いですね！
by との