スパッタリング用ガス
スパッタリングはグロー放電を起こした際にイオンの陰極表面
への衝突により陰極材料が飛び出す現象です。
ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition : 物理蒸着法）に分類される
スパッタリングには、コンベンショナル・スパッタリングやマグネト
ロン・スパッタリング、イオンビーム・スパッタリング、ＥＣＲスパッ
タリングなどがあります。
このスパッタリングには、通常アルゴンガスを使用します。スパッ
タされる材料が活性ガスと反応して、化合物とならないようにする
ために不活性ガスが使われるのです。コストとスパッタ率（効率）
が良い理由でアルゴンが使われますが、他にも He , Ne , Xe, Kr
N2 , O2を使ってスパッタすることも可能です。
N2 , O2 など活性ガスを使用するとスパッタリングされた分子が
窒化物や酸化物になります。活性ガスの混合したスパッタを、化成
スパッタリング、反応性スパッタリング、リアクティブスパッタリング
などと呼んでおり、化合物を成膜する目的に使用されています。
スパッタリングガス Ar,He,Ne,Xe,Kr,N2,O2 のご用命ご相談は
川口液化ケミカル株式会社まで、どうぞご連絡ください。
ＴＥＬ 048-282-3665
ありがとうございます
今日の埼玉川口のお天気は？
１月２１日 木曜日
天気 はれ
ボンベ庫の温度 昼１２℃、夜１２℃
です。
ハイチ地震でビックリするような子供の救出劇が
あったそうで、地震で下敷きになった瓦礫の下で
生後１５日の赤ちゃんが１週間生きていたり
５歳、１１歳の子供が同様に救出されています。
現地の医師は、神がかっているとしか言えないと
コメントしていました。