ＲＩＥ工程

ガスの知恵袋 　2008年03月24日

　ＲＩＥ（リアクティブイオンエッチング）は、電極の上のシリコン
基板低真空で接地させた対極との間にグロー放電を発生させ
放電下でＣＦ４やＣＣｌ４などのような反応ガスを導入します。
　このガスをイオン化させともに加速させ基板上に衝突させ、
表面をエッチングするものです。特徴は異方性エッチング（縦と
横のエッチング速度が異なる）などで微細化に有効です。

高圧ガス・真空・低温ガスのことなら
川口液化ケミカル株式会社までお気軽に
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ＴＥＬ　048-282-3665

ありがとうございます。

今日の埼玉のお天気は？
　3月24日
　天気　雨のち曇り
　ボンベ庫の温度　昼8℃、夜9℃
です。
カンブリア宮殿で営業の極意のについて放映してました。
「失敗を繰り返し、次こそはなんとか！」
という想いがひとつのポイントだとか。