半導体用ガス
半導体用ガスの種類は多種多様にわたり、その用途も
またさまざまなものです。
雰囲気用ガス ： Ar,O2,N2,H2
用途
Ar : 不活性雰囲気用、シリコン単結晶炉
O2 : 酸化性雰囲気、キャリアガス、酸化炉、拡散炉、ＣＶＤ炉
N2 : 不活性雰囲気、キャリヤガス、拡散炉、アニール炉
H2 : 還元性雰囲気、エピタキシャル炉
原料ガス ： SiH4,SiHCl3,SiCl4
用途
SiH4 : エピタキシャル成長、ポリシリコン単結晶
SiHCl3 : エピタキシャル成長、多結晶シリコン（単結晶用）
SiCl4 : エピタキシャル成長
薄膜形成用ガス ： SiH4,NH3
用途
SiH4 : SiO2膜、deped oxide膜、窒化膜形成
NH3 : 窒化膜形成
ドーピング用ガス ： PH3,B2H6,AsH3,SbH3,POCl3
用途
PH3 : 拡散、doped oxide膜、エピタキシャル、単結晶のドーピング
B2H6 : 拡散、doped oxide膜、エピタキシャル、単結晶のドーピング
AsH3 : deped oxide膜、エピタキシャルのドーピング、拡散
SbH3 : エピタキシャルのドーピング、拡散
POCl3 : 拡散、パッシベーション
エッチング用ガス ： CF4,CCl4,HCl
用途
CF4 : 酸化膜、ポリシリコン、窒化膜などのエッチング
CCl4 : Al,Crなど金属のエッチング
HCl : シリコンウエハーのエッチング
などなど。
これらの半導体用ガスは単なるガスでなく、ガス関連技術
（製造、精製、計量、分析、ほか）を集積したファインケミカル
であり、ボンベの運搬までガス純度に影響しうるレベルが求
められるのです。
高純度ガス、高純度ガス用調整器、バルブ、マスフロコントローラー
など川口液化ケミカル株式会社までお気軽にご相談ください。
ＴＥＬ 048-282-3665
ありがとうございます。
よろしくお願い致します。
今日の埼玉のお天気は？
１２月２日
天気 はれ
気温 ９℃
です。
ＮＨＫの紅白歌合戦の司会者など宣伝が始まり
大河ドラマも物語の佳境を向かえ、年の瀬に近づ
いたことを感じさせますね。