真空成膜法 イオンプレーティング
真空中で成膜する主な方法のうち、ＰＶＤ（物理蒸着法）の
蒸発系、スパッタ系に分かれる蒸発系で、イオンプレーティング
があります。
この方法は、基板（ターゲット）に数ｋＶの負電圧を印加して
数Ｐａのアルゴンガスの雰囲気下で真空蒸着させます。
このときの導入されたアルゴンガスや蒸発粒子のイオンが
基板近くの陰極暗部の電位差で加速されて基盤にぶつかります。
そのため、強い膜が作られるのです。
基本的には平均自由行程が短い圧力状態下での成膜ですので
蒸発粒子が衝突したうえ散乱します。
そのおかげで、立方体の基板（ターゲット）への付き回りが良くなる
ようです。
アセチレン （Ｃ２Ｈ２）
酸素 （ Ｏ２）
窒素 （ Ｎ２）
などの導入ガスで反応させれば、炭化物や酸化物、窒化物
の膜なども成膜可能です。
真空チャンバー、真空装置の排気系、メンテナンス、改造
リークテストなど、どうぞご相談ください。
川口液化ケミカル株式会社
ＴＥＬ 048-282-3665
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今日の格言
男として生まれた、人生観とは？
「われわれの多数は、他のヒツジどものやることに支配されてばかり
いる愚かなヒツジによく似ている。その愚かなヒツジは、先導者が
橋の右側を渡って川に落ちるのを見ていながら、自分もそのあとに
従って、川に落ち込むのである。先導者が落ちたら、自分は左側を
行けばよい。ただそれだけの注意と独創力が必要なのだ。しかし
多数のものはそのことに気付かない。」
（ハースト）