真空成膜法 ＣＶＤ
成膜技術の代表的な手法ＣＶＤは、実験設備から
生産現場まで幅広く利用されている手法です。
化学的気相法（化学蒸着法）とは、薄膜の材料になる
構成分子を含む化合物ガスをチャンバー（成膜室容器）内に
導入します。
そして化学反応の力を利用して目的の原料を薄膜の組成
に合わせて積層させ膜作りをすすめていきます。
原料となるガスは、さまざまなものが利用されますが、有機
金属化合物ガスを用いる場合を、ＭＯＣＶＤと呼んでいます。
日亜化学のブルーＬＥＤを成功させたのはこの成膜装置です。
ＧａＡｓ、ＩｎＰ などなど話題の技術となっております。
化学反応のエネルギーは、熱（抵抗加熱、赤外線ランプなど）
、プラズマ（直流、高周波、マイクロ波など）、光（紫外線ランプ
、レーザーなど）が主なものです。
大学、研究所、基礎研究用のＣＶＤ装置の新規設計製作や
既存装置の改造、チャンバーの拡張、重金属の無害化処理など
川口液化ケミカル株式会社まで、どうぞご相談ください。
ＴＥＬ 048-282-3665
ありがとうございます。
今日の格言
男に生まれた人生観とは？
「何もせずにじっとしておれば、一日が二日みたいな気になるものだ。
もし一生涯を全部こんな気分に切り替えることができれば、七十まで
生きたとしても、それは百四十歳の寿を得たことになる。こんな素晴らしい
長生きの薬は、めったにあるものではない。副作用もなければ
金もかからぬ。人間は誰でも、この処方をそなえておるのに、困ったことには
よい白湯がないために、せっかくの薬が服めぬという始末だ。」
（蘇東坡）