エキシマレーザー ガス・ダクト配管工事
He + F2,He + HCl + H2,Ne,Kr,Xe など
希ガス系のガス供給源を必要とするエキシマレーザーは
かつての産業用途から生産工程に組み込まれつつあります。
不活性ガスである He,Ne,Kr,Xe は、ボンベマニホールドに
収納すればよいのですが、F2 , HCl などはシリンダーキャビネットに
局所排気する設備が不可欠です。
また、 HF などに変化した排ガスを処理するために
スクラバー式除害装置を利用し、無害化して大気放出しないと
エキシマレーザーを使用している附近で酸っぱい臭いや
なにか壁や機器がベトベトした感触になるようですと、知らずに
吸引している可能性もあります。
エキシマレーザー用ガス供給設備、排ガス設備
高圧ガス、低温機器、真空機器
川口液化ケミカル株式会社
TEL 048-282-3665
ありがとうございます。
今日の格言
成功と失敗を生かすには?
「失敗とは、一つの教訓にほかならないし
好転する第一歩だ。」
(フィリップス)