特殊材料ガス
特殊材料ガス（半導体材料ガス）の用途は、各装置メーカー
によって解釈が異なる場合がありますが一般的な使用例
として以下にご紹介いたします。
・CVD
SiH4,100%（シラン）
Si2H6,100%（ジシラン）
SiH2Cl2（ジクロルシラン）
SiF4（四フッ化ケイ素）
D2（重水素）
NH3（アンモニア）
CH4（メタン）
C2H4（エチレン）
ClF3（三フッ化塩素）
WF6（六フッ化タングステン）
SO2（亜硫酸ガス）
O2（酸素）
・Epi
SiH4,100%（シラン）
SiH2Cl2（ジクロルシラン）
GeH4,10%Down（モノゲルマン）
・拡散炉
H2,（水素）
・キャリーガス
H2,（水素）
He（ヘリウム）
Ar（アルゴン）
Ne（ネオン）
Kr（クリプトン）
Xe（キセノン）
N2（窒素）
・ドーピング
H2Se,1%Down（セレン化水素）
GeH4,10%Down（モノゲルマン）
AsH3,3%Down（アルシン）
PH3,1%Down（ホスフィン）
B2H6,3%Down（ジボラン）
BF3（三フッ化ホウ素）
・エッチング
Cl2（塩素）
HCl（塩化水素）
HBr（臭化水素）
NF3（三フッ化水素）
CH2F2（二フッ化メタン）
SF6（六フッ化硫黄）
CF4（四フッ化メタン）
C2F6（六フッ化エタン）
C3F8（八フッ化プロパン）
CHF3（三フッ化メタン）
CO（一酸化炭素）
CO2（二酸化炭素）
・ステッパ
F2+Ne（フッ素ネオン）
F2+Kr+Ne（フッ素クリプトン）
F2+Ar+Ne（フッ素アルゴン）
・酸化炉
O2（酸素）
高圧ガス・真空機器・低温機器
川口液化ケミカル株式会社
TEL 048-282-3665
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今日の格言
理想への挑戦とは？
「理想とは不満の意を表明する方法のことである。」
（ヴァレリー）